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[单选题]
光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是条宽控制和（)。
A.对位控制
B.分辨率控制
C.粘附性控制
D.灵敏度控制
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A.避免从顶部或窗外的顶光、测光直接照射，会直接导致阴影
B.建议采用深色色调桌布，以反射散光让参会者人员脸部光线充足
C.摄像机镜头不应对准门口，若把门口作为背景，人员进出将使摄像头对摄像目标背后光源曝光
D.建议灯具采用漫反射方式
A.接收光功率过高的情况下，需要使用光衰减器
B.光衰减器只能加在“IN“口，不能加在”OUT“口
C.激光器发出的光为红外光并不强烈，因此，可以将连接器对准人的眼睛观察有无发光
D.清洁光纤接头和激光器的光接口，必须使用专用的清洁工具和材料
A.借助光伏，风电等技术，实现清洁发电
B.用新工艺、新设备提高煤等传统能源的使用效率
C.通过催化工艺，将二氧化碳转化为有用的产品和资源
D.技术加持能源结构转型
A.使用包围曝光可以只拍摄1张图片
B.通常在大光比环境拍摄又希望尽可能同时保持高光和阴影区细节时使用
C.使用包围曝光模式拍摄，通常可以获得曝光不足，正常曝光、曝光过度的图片
D.在拍摄72全景图片时可以使用包围曝光设置
