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题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

SiHCI3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（)

A.反应温度在280°C~300C之间

B.硅粉与HCI在进入反应炉前要充分千

C.晶体生长速度

D.合成时加入少量的催化剂，可降低温度

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更多“SiHCI3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（)”相关的问题

第1题

如何制备石墨烯（)。

A.微机械剥离法

B.氧化石墨还原法

C.外延生长法

D.CVD法(化学气相沉积)

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第2题

关于直接还原法炼铁，下列说法正确的是（)。

A.直接还原产生的海绵铁中能氧化发热的元素如硅、碳等含量很少，适用于电弧炉炼钢

B.海绵铁的活性大、易氧化，长途运输和长期保存困难

C.在高于矿石熔化温度下，通过固态还原，把铁矿石炼制成铁的工艺过程

D.直接还原竖炉的典型代表是Midrex法

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第3题

目前，国产晶体硅的电池的效率在()左右，国外同类产品在()左右。

目前，国产晶体硅的电池的效率在（)左右，国外同类产品在（)左右。

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第4题

在晶体生长过程中，晶体的直径主要受()和()的变化而变化。氩气在直拉单晶硅工艺中的作用是保护硅料不被氧化，()和()。

在晶体生长过程中，晶体的直径主要受（)和（)的变化而变化。氩气在直拉单晶硅工艺中的作用是保护硅料不被氧化，（)和（)。

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第5题

标准晶体硅太阳电池组件玻璃采用()玻璃()，厚度()，透光率达()以上。钢化玻璃抗冲击性能实验中，按

标准晶体硅太阳电池组件玻璃采用（)玻璃（)，厚度（)，透光率达（)以上。钢化玻璃抗冲击性能实验中，按

照国标检测，用()g钢球，从高度()处自由落下，冲击玻璃板的中心点附近，玻璃不破裂，保证玻璃的抗冲击性，提高产品在恶劣环境中的安全系数。

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第6题

在制备纳米粒子时，通常加入表面活性剂进行保护，这主要是为了防止().

在制备纳米粒子时，通常加入表面活性剂进行保护，这主要是为了防止（).

A.颗粒聚集长大

B.均相成核作用

C.表面吸附杂质

D.生成晶体形态

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第7题

关于N型半导体的下列说法，错误的是（）。

A.自由电子是多数载流子

B.在二极管中由N型半导体引出的线是二极管的阴极

C.在纯净的硅晶体中加入三价元素硼，可形成N型半导体

D.在PNP型晶体管中，基区是N型半导体

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第8题

下列那一项不属于SiHCI3提纯的方法（)

A.横拉法

B.固体吸附法

C.络合物形成法

D.精馏法

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第9题

太阳能电池材料的种类有（)。

A.晶体硅

B.非晶硅

C.化合物

D.纳米太阳能电池

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第10题

铝酸钠溶液贯穿了整个氧化铝生产过程，在烧结法的脱硅过程中，我们为了保持铝酸钠溶液的稳定性，在脱硅前向其中加入了种分蒸发母液(溶液)。在碳酸化分解过程中,我们为了打破其稳定性，向其中通入CO2气体;在种分过程中，我们为打破溶液稳定性，通过降低温度，向其中加入起诱导作用的Al(OH)3种子等措施，达到从溶液中析出Al(OH)3的目的。()此题为判断题(对，错)。

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第11题

染料的生产过程包括哪三个步骤？（)

A.制备原染料

B.提取色素

C.制备染料中间体

D.制备商品染料

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