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[主观题]

蒸发真空较低的原因:()

蒸发真空较低的原因:()

A . 低压压力高

B . 冷却水进口压力高

C . 冷却水温高

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第1题
造成蒸发一段出料浓度低的原因有()。

A.中压蒸气压力低

B.低压蒸气压力低

C.蒸发三塔塔顶回流量太大

D.系统真空差

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第2题
蒸发一段出料浓度低的原因有()。

A.蒸发蒸气量不够

B.三塔再沸器换热效果差

C.系统真空差

D.进料浓度低

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第3题
闪蒸汽液分离罐压力高的原因有()。

A.蒸发三塔真空跌

B.中压蒸气压力低

C.喷嘴磨损

D.汽液分离罐气相管堵

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第4题
真空低的原因有哪些?

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第5题
闪蒸出料含水量高的原因有()。

A.蒸发一段出料浓度低

B.闪蒸负荷变化太快

C.闪蒸罐压力高

D.闪蒸预热温度低

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第6题
闭锁料斗从反应接收器收剂慢的原因()

A.闭锁料斗压力高于反应接收器

B.反应接收器料位低

C.反应压力较低

D.反应压力较高

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第7题
FO储罐发生突沸的原因()。

A.储罐里的物料很多

B.加热蒸汽的压力温度异常升高

C.保温蒸汽压力低

D.温度控制的设定值较低

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第8题
所谓()压裂是压开地层裂缝之前,先用暂堵剂封堵高含水层或高含水部位或已压裂过的油层,然后启压压开低含水层或低含水部位,达到压裂、增油的目的。

A.普通

B.选择性

C.平衡限流法

D.限流法

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第9题
工业上常采用抽真空的办法来进行蒸发作业,就叫做()。

A.单效蒸发

B.真空蒸发

C.多效蒸发

D.蒸发

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第10题
适用于溶解度随温度降低而显著下降的结晶方法是结晶()。

A.冷却

B.蒸发

C.盐析

D.真空冷却

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第11题
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,气化粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。()
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