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第2题
半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→Si
半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:（1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2（g)+2C（s)→Si
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半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:
(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→Si(s)+2CO(g)
(2)硅被氯氧化成四氯化硅:Si(s)+2Cl2(g)→SiCl4(g)
(3)四氯化硅被镁还原生成纯硅:SiCl4(g)+2Mg(s)→2MgCl2(s)+Si(g)
计算上述各反应的
(298K)和生产1.00kg纯硅的总反应热.
第4题
根据高炉内硅还原的机理，降低生铁含硅的途径是：首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度;其次降低风口前燃烧温度，直接减少SiO的发生量;三是应减少入炉的SiO2量，降低炉渣中SiO2的活度。()此题为判断题(对，错)。
第7题
试解释下列现象:(1)碳与硅为同族元素,但其氧化物CO2,SiO2性质上相差极大.(2)NaCl与AgC
试解释下列现象:（1)碳与硅为同族元素,但其氧化物CO2,SiO2性质上相差极大.（2)NaCl与AgC
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试解释下列现象:
(1)碳与硅为同族元素,但其氧化物CO2,SiO2性质上相差极大.
(2)NaCl与AgCl化合物中阳离子都为+1,但AgCl难溶于水,NaCl易溶于水.
(3)第三周期元素氟化物熔点从SiF4开始突然下降:NaF(980℃),MgF2(1400℃),AlF3(1040℃),SiF4(-77℃),PF5(-83℃),SF6(-55℃).
(4)BeO熔点高于LiF,而FeCl3熔点又低于FeCl2.
(5)HgS,CdS,ZnS颜色差异.
