题目内容
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[主观题]
直拉硅单晶的氧杂质在低温热处理时,会产生施主效应,使得N型硅晶体的电阻率下降,P型硅晶体的电
阻率上升。施主效应严重时,能使P型硅晶体转化为N型,这就是氧的施主效应。氧的施主效应可以分为两种情况,有不同的性质,一种是在350~500℃左右温度范围生成的,称为();一种是在550~800℃左右温度范围形成的,称为()。
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A.吸气中带有较多液体,产生的低温
B.排气中带有较多液体,产生的低温
C.吸气中带有较多液体,产生的冲击
D.排气中带有较多液体,产生的冲击
A.对于有机过氧化物,所有贮器应牢固封口
B.如果包装件内可能因为释放气体而产生较大的内压,可以配备排气孔
C.任何排气装置的结构应使液体在包件直立时不会漏出,并且应能防止杂质进入
D.如果有外容器,其设计应使它不会干扰排气装置的作用