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第2题
光刻技术的原理和印刷的照相制版相似，即在硅基材料上涂覆光刻胶，接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模，对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后，在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形，再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。（)
第9题
SPECT的断层空间分辨率由点扩散函数的FWHM表示，关于分辨率及FWHM下列错误的是（)。
A.分辨率是反映SPECT性能的重要指标
B.分辨率描述能分辨两点间最小距离的能力
C.FWHM值越大，分辨率越高
D.分辨率越高，图像质量越好
第10题
下列OTDR的使用中，说法正确的是（)。
A.分别从两端测，测出的衰减值是一样的。
B.平均时间越长，信噪比越高，曲线越清晰。
C.脉冲宽度越大，盲区越小。
D.脉宽越大，功率越大，可测的距离越长，分辨率也越高。
