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[主观题]

电源保护装置有()。 A) 金属氧化物可变电阻 B) 硅雪崩二极管 C) 气体放电管 D) 滤波器

电源保护装置有()。

A) 金属氧化物可变电阻

B) 硅雪崩二极管

C) 气体放电管

D) 滤波器

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第1题
电源保护装置有()

电源保护装置有( )。

A) 金属氧化物可变电阻

B) 硅雪崩二极管

C) 气体放电管

D) 滤波器

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第2题
3~66kV并联电容补偿装置应装设(),作为过电压后备保护装置。

A.避雷器

B.金属氧化物避雷器

C.普阀避雷器

D.磁吹避雷器

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第3题
漏电保护装置的作用有()

A.可不问断地监视被保护电网的绝缘状态

B.漏电时迅速切断电源

C.防止电气设备漏电

D.当人体接触带电物体时迅速切断电源

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第4题
高压触电可采用下列()方法使触电者脱离电源。

A.立即通知供电企业或用户停电

B.戴上绝缘手套,穿上绝缘靴,用相应电压等级的绝缘工具按顺序拉开电源开关

C.抛掷金属线使线路短路接地,迫使保护装置动作,断开电源

D.手持金属导体使线路短路接地,迫使保护装置动作,断开电源

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第5题
下列关于碳和碳的氧化物的说法错误的是()

A.CO能用于冶炼金属

B.CO2可用于灭火、制碳酸型饮料等

C.石墨和金刚石在充足的氧气中燃烧都生成一氧化碳

D.石墨和金刚石的物理性质有明显差异,是因为它们的原子排列方式不同

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第6题
溶剂清洗除油可去除金属氧化物、无机盐、积碳和手汗等污物。()
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第7题

高纯二氧化硅可用来制造光纤。某蛇纹石的成分见下表:高纯二氧化硅可用来制造光纤。某蛇纹石的成分见下表:通过下图流程可由蛇纹石制备较纯净的二氧化硅。(1)通过下图流程可由蛇纹石制备较纯净的二氧化硅。高纯二氧化硅可用来制造光纤。某蛇纹石的成分见下表:通过下图流程可由蛇纹石制备较纯净的二氧化硅。(1)(1)蛇纹石中涉及的可溶性金属氧化物有()(写化学式)。

(2)步骤①中涉及SiO2 反应的离子方程式为()。

(3)滤渣 A的成分有()(填化学式)。

(4)步骤②中洗涤沉淀的方法是()。

(5)步骤③反应的化学方程式为();实验室进行步骤③需要用到的仪器有坩埚、泥三角、酒精灯、玻璃棒、()和()。

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第8题
电源电涌保护器的保护模式应符合()规定

A、TN接地方式下,电涌保护器宜采用相线/中线对地保护模式。在甲级电涌保护系统中的设备级﹑精细级和在乙级电涌保护系统中的设备级应采取全保护接法。

B、TN接地方式下,电涌保护器宜采用相线/中线对设备保护模式。在乙级电涌保护系统中的设备级﹑精细级和在乙级电涌保护系统中的设备级应采取全保护接法。

C、在TT接地方式下的电涌保护器,当变压器外壳与低压侧中性点不共地或变压器高压侧中性点不接地时,金属氧化物电压限制型入口级SPD可位于剩余电流保护器(RCD)之负载侧,采取对地保护模式,接于各相线和中线与地之间,也可位于RCD之电源侧的接线形式。当变压器外壳与低压侧中性点共地﹑变压器中性点有效接地时,入口级SPD接线形式接于RCD之电源侧。

D、在TT接地方式下的电涌保护器,当变压器外壳与低压侧中性点共地或变压器高压侧中性点接地时,金属氧化物电压限制型入口级SPD可位于剩余电流保护器(RCD)之负载侧,采取对地保护模式,接于各相线和中线与地之间,也可位于RCD之电源侧的接线形式。当变压器外壳与低压侧中性点共地﹑变压器中性点有效接地时,入口级SPD接线形式接于RCD之电源侧。

E、在IT接地方式下当中性线N未配出时,SPD仅在各相与地之间接入;当中性线N配出时,在中性线与地之间也应接入SPD。

F、在IT接地方式下当保护中性线PEN未配出时,SPD仅在各相与地之间接入;当中性线N配出时,在中性线与地之间也应接入SPD。

G、单相SPD接法,应接于相线与地和中性线与地之间,或接于相线与中性线和中性线与地之间的接法。单相全保护模式应接于相线与中性线之间和相线与地﹑中性线与地之间的接法。

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第9题
CMOS的中文意思是互补金属氧化物半导体,是集成在主板上的一块可读写RAM芯片()
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第10题
物质的性质决定物质的用途。下列说法错误的是()

A.氧气具有助燃性,可用作燃料

B.干冰升华时吸热,可用于人工降雨

C.盐酸能与金属氧化物反应,可用于金属除锈

D.氢氧化钠固体易潮解,可用作某些气体的干燥剂

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