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第5题
直拉硅单晶的氧杂质在低温热处理时，会产生施主效应，使得N型硅晶体的电阻率下降，P型硅晶体的电
阻率上升。施主效应严重时，能使P型硅晶体转化为N型，这就是氧的施主效应。氧的施主效应可以分为两种情况，有不同的性质，一种是在350～500℃左右温度范围生成的，称为（）；一种是在550～800℃左右温度范围形成的，称为（）。
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第9题
在用数据记录仪做产品温度验证时，需要挑选规格的原料肉，将探针用75%的酒精消毒后插在原料肉的中间位置，按产品规格书要求设定温度和时间，如参数有范围要求，则选用OV
A.N温度和最快速度，并选择摆链速度，用最严苛条件进行验证。
B.上限、下限、下限
C.下限、下限、上限
D.上限、下限、上限
E.下限、上限、上限
