首页 > 考试题库
题目内容 (请给出正确答案)
[多选题]

集成电路的技术发展情况主要包括()和()两方面。

A.线宽

B.速度

C.集成度

D.成本

答案
收藏

AC

如果结果不匹配,请 联系老师 获取答案
您可能会需要:
您的账号:,可能还需要:
您的账号:
发送账号密码至手机
发送
安装优题宝APP,拍照搜题省时又省心!
更多“集成电路的技术发展情况主要包括()和()两方面。”相关的问题
第1题
现代科学技术发展的特点主要包括()。

A.规模宏大

B.多样化

C.发展速度特别快

D.质量高和结构变化快

点击查看答案
第2题
集成电路中,主要包括______,______和半导体元件。电路元件具有良好的______和______。

点击查看答案
第3题
只有查明了竞争对手的营销情况,才能判断出本企业在()中的地位和优劣势。

A.市场竞争

B.企业发展

C.社会环境

D.技术发展

点击查看答案
第4题
互联网对IT技术发展、系统架构和管理模式的变化,主要涉及()。

A.技术应用

B.新兴技术

C.系统架构

D.管理模式

点击查看答案
第5题
市场调查的内容包括( )调查等。
市场调查的内容包括()调查等。

A、国内外市场环境

B、土地使用情况

C、技术发展

D、消费者

E、市场营销因素

点击查看答案
第6题
产业技术结构的选择和技术发展政策主要涉及()方面。

A.制定具体的技术标准

B.促进资源向技术开发领域投入

C.规定各产业的技术发展方向

D.鼓励采用先进技术

E.促进技术开发政策

点击查看答案
第7题
储能技术发展是保障清洁能源大规模发展和电网安全经济运行的关键。储能技术主要分为()等三大类。

A.飞轮储能

B.电磁储能

C.物理储能

D.电化学储能

点击查看答案
第8题
食品安全地方标准实施后,省级卫生行政部门应当根据科学技术发展、相关食品安全标准制定和跟踪评价结果等情况,组织卫生监督机构对标准复审,确定其继续有效、修订或废止。复审周期原则上不超过()。

A.二年

B.三年

C.四年

D.五年

点击查看答案
第9题
CAD技术可应用于产品设计和工程设计,范围包括()。

A.飞机

B.汽车

C.服装

D.建筑设计

E.集成电路

点击查看答案
第10题
氧化硅的化学机械抛光是集成电路制造中最先进和最广泛的平坦化工艺,主要应用于()方面。

A.大马士革工艺

B.层间介质(ILD)CMP

C.浅沟槽隔离(STI)CMP

D.钨的CMP

点击查看答案
第11题
纯电动汽车是电动汽车技术发展的主要方向,未来将呈现()、()、()的特点。

A.平台化

B.轻量化

C.智能化

D.自动化

点击查看答案
退出 登录/注册
发送账号至手机
密码将被重置
获取验证码
发送
温馨提示
该问题答案仅针对搜题卡用户开放,请点击购买搜题卡。
马上购买搜题卡
我已购买搜题卡, 登录账号 继续查看答案
重置密码
确认修改